金属聚酯膜电容技术解析:纬迪工艺、设备与研发实力全揭秘
2025-06-27 17:41:19
金属聚酯膜电容以聚酯薄膜为介质,通过真空蒸镀技术形成金属化电极,兼具小型化与自愈特性。我们纬迪的产品矩阵覆盖高频应用场景,其技术突破体现在以下维度:
1. 介质特性与高频性能
聚酯薄膜的介电常数(ε≈3.0)与介质损耗角正切(tanδ≤0.01@1kHz)决定其适用于100kHz以下高频电路。与聚丙烯薄膜电容器相比,金属聚酯膜电容在105℃高温下容量衰减率低至3%,而聚丙烯电容在同等条件下衰减率可达5%。
2. 安规电容与X2级认证
纬迪金属化聚酯膜电容器(浸渍型)通过UL、ENEC等安规认证,符合X2级抑制电源电磁干扰标准(IEC 60384-14)。在LED驱动电源中,X2电容需承受2.5kV浪涌冲击,纬迪产品通过优化端子间距(≥5mm)与封装树脂(环氧模塑料),抗浪涌能力提升40%。
3. 薄膜电容的耐压设计
金属聚酯膜电容的耐压由介质厚度与电极层数决定。纬迪高压系列(如CL21X)采用双面金属化电极,耐压达630VDC,适用于光伏逆变器的DC-Link电路。
4. 自愈特性与可靠性
当电容局部击穿时,金属化电极的蒸发效应可隔离故障点。纬迪通过改进蒸镀工艺(铝层厚度0.08μm),使自愈能量降低至0.1μJ,延长电容寿命。